水晶管
石英プレート
クォーツロッド
光学応用
半導体産業
ラボおよび化学用途
当社の炉内プロセス用石英ステージは、高純度溶融石英から精密に設計されており、要求の厳しい熱処理において比類ない安定性と清浄性を提供します。極端な温度に耐え、構造的完全性を維持するように設計されたこれらのステージは、アニーリング、拡散、焼結、および結晶成長の用途に理想的です。非汚染性の石英材料により、半導体ウェーハや高純度セラミックスなどの高感度材料が、超クリーンな環境で確実に処理されます。お客様の特定の炉システムと処理要件に完璧に統合できるよう、カスタム寸法、グリッドパターン、および設計が利用可能です。
備考：
- 支払い方法：ご注文数量に応じて、銀行振込または前払い
- 納期：ご注文数量によります
- 輸送方法：お客様のご要望に応じて、海上輸送または航空輸送
| 特性内容 | 特性値 |
|---|---|
| SiO2 | 99.99% |
| 密度 | 2.2×10³ kg/cm³ |
| 硬度 | モース硬度 5.5～6.5; ヌープ硬度 570 (荷重100g) |
| 引張強度 | 4.8 × 10⁷ Pa (48 N/mm² または 48 MPa); 7,000 psi |
| 圧縮強度 | >1.1×10⁹ Pa (160,000 psi) |
| 熱膨張係数 | 5.5×10⁻⁷ cm/cm·°C (20°C-320°C) |
| 熱伝導率 | 1.4 W/m-°C |
| 比熱 | 670 J/kg-°C |
| 軟化点 | 1730度C（3146度F） |
| 徐冷点 | 1210度C（2210度F） |
| 歪点 | 1120度C（2048度F） |
| 使用温度 | 1200°C |
| 電気抵抗率 | 7×10⁷Ωcm (350°C) |
| サイズ | カスタマイズ対応 |
| ロゴ | ロゴのカスタマイズ対応 |
卓越した高温安定性
高純度溶融石英から作られたこれらの石英ステージは、炉で一般的な極端な長時間の高温条件下でも構造的完全性と平坦性を維持し、アニーリング、焼結、または拡散プロセス中の材料に対する信頼性の高い支持を保証します。
超高純度・非汚染性
その固有の純度の高さにより、石英材料は高感度な処理材料への不純物混入や相互汚染を防ぎ、これは半導体製造、先端セラミックス、その他のクリーンプロセス用途において極めて重要です
優れた耐薬品性およびプロセス雰囲気耐性
石英は、高温下でほとんどの攻撃的な化学物質や様々なプロセスガス（例：酸化性、還元性、不活性雰囲気）に対して高い不活性性を示します。これにより、ステージの長寿命が保証され、処理材料との望ましくない反応が防止されます。
精密設計と完全なカスタマイズ
これらのステージは、様々なサンプルやコンポーネントを確実に保持し分離するために、特定の寸法、グリッドパターン、および表面仕上げで精密に製作できます。完全なカスタマイズ機能により、多様な炉システムへの完璧な統合と、独自の処理要件への最適化が可能になります。
アプリケーションシナリオ
半導体ウェーハプロセス
アニーリング、拡散、酸化、または薄膜堆積などの高温プロセスにおいて、シリコンウェーハやその他の半導体基板を支持し分離するために不可欠であり、超高純度と熱安定性が最重要となる拡散炉および急速熱処理（RTP）炉内で使用されます。
高温材料熱処理
産業用および実験室用炉において、焼結、仮焼、または一般的な熱処理中にセラミックス、金属、または複合材料などの様々な材料を保持し処理するために理想的であり、均一な加熱を保証し、汚染を防ぎます。
結晶成長およびエピタキシャル堆積
結晶成長炉（例：チョクラルスキー、ブリッジマン）またはエピタキシャル成長システムにおいて、るつぼ、シード結晶、または基板用の安定したプラットフォームとして使用され、材料品質に不可欠な精密な位置決めと不活性な高温環境が重要となります。
ラボおよび研究炉用途
研究炉内において、多様なサンプルや実験装置を支持するための多用途で非常に安定した表面を提供し、材料科学や化学工学などの分野における制御された高温反応、材料特性評価、または特殊熱処理を可能にします。
取扱注意
石英ガラス製品は貴重な材料で作られているため、衝突や落下を避けるため慎重に取り扱う必要があります
定期メンテナンス
石英管のメンテナンスは、その長期的な安定した性能を確保するため、定期的に実施する必要があります。異常の発生を防ぐため、石英管の接続部、固定具、機械的振動を定期的に点検してください。石英管の外面は、ほこりや湿気による汚染を受けやすいため、定期的な清掃が必要です
保管環境
石英チューブを保管する際は、材料の劣化を防ぐため、機械的振動、衝撃、および過度に高い温度への曝露を避けるよう注意が必要です。乾燥した涼しく換気の良い場所に保管し、直射日光や高温環境を避けてください
石英製炉内ステージは、石英（溶融石英）が超高純度材料（通常SiO2 99.99%以上）であるため、処理される材料の純度を維持する上で極めて重要です。金属製や一部のセラミックス製ステージとは異なり、高温処理中に高感度材料（半導体ウェーハなど）に不要な金属イオンやその他の汚染物質を溶出させることがなく、最終製品の完全性と性能を保証します。
主な考慮事項には、炉の最大動作温度、処理する材料/サンプルの特定の寸法と数、分離に必要なグリッドまたは仕切りレイアウト、炉のタイプ（例：管状炉、ボックス炉）、および特定の取り付け機能やガス流量特性の必要性が含まれます。最適なカスタム設計のためには、お客様の炉とプロセスの詳細な図面または仕様を提供することを強くお勧めします。
はい、石英ステージは溶融石英の極めて低い熱膨張係数により、優れた熱衝撃耐性を示します。この特性により、頻繁な温度変化や急速な昇温/冷却速度を伴うプロセスにおいて、亀裂や変形なしに急速加熱および冷却サイクルに耐えることができ、非常に耐久性が高く信頼性があります。
よくある質問
当社は、高純度石英ガラス部品の一貫製造を専門としております。主な製品ラインナップは以下の通りです：
石英管・石英棒: 幅広い直径と仕様。
石英プレート・ディスク: 光学および工業用途向けに精密に切断・研磨。
石英実験器具: ビーカー、フラスコ、ボートなど、標準品から特注品まで幅広い種類のガラス器具。
半導体グレード石英: 半導体製造用のプロセスチューブやキャリアなどの高純度部品。
特注加工部品: お客様固有の設計および仕様に合わせて、複雑な部品を製造できます。
はい。特注加工（カスタム加工）は、当社の事業の中核です。10年以上にわたる専門的な経験を活かし、お客様企業と提携し、専門的なOEM/ODMサービスを提供しております。当社の加工技術には、溶接、研削、穴あけ、研磨、曲げ加工、その他さまざまな精密加工技術が含まれており、お客様の厳密なご要望にお応えする部品を製造いたします。
品質は当社の製造プロセスにおいて最も重要です。当社はISO 9001:2015認証取得メーカーであり、当社のプロセスが国際的な品質管理基準を満たしていることを保証します。また、当社の製品は純度と性能に関して厳格なSGS試験を受けています。当社は高純度原材料（SiO2 99.998%まで）を使用し、優れた熱安定性、高温耐性、化学的不活性を持つ溶融石英および溶融シリカ製品を製造しています。
当社はプロセスを最大限に効率化しました：
RFQ（見積依頼）を提出：ウェブサイトのお問い合わせフォームまたはEメールで、技術図面、仕様、要件をお送りください。
迅速な対応: 数分以内に初回返信を、30分以内に詳細なご連絡を差し上げます。
設計・提案：24時間以内に詳細な設計提案と競争力のある見積もりをお届けします。
試作・生産：承認後、お客様の納期に間に合わせるため、迅速に試作から本格的な量産へと移行いたします。
Aoxin Quartzとの提携には、いくつかの重要なメリットがあります：
実証された専門知識：業界で10年以上の経験を持つ当社には、複雑な課題に取り組むための技術的知見があります。
One-Stop Solution: We manage the entire production process, from sourcing high-purity raw materials to fabricating and finishing complex components.
競争力のある価値：主要な石英生産拠点に位置することで、効率的なサプライチェーンと先進的な製造技術を活用し、競争力のある価格で卓越した品質を提供しています。
Dedicated Partnership: Over 90% of our clients become long-term partners. We are committed to your success through responsive service, reliable quality, and innovative solutions.
