水晶管
石英プレート
クォーツロッド
光学応用
半導体産業
ラボおよび化学用途
当社の石英ガスディフューザーは、高純度溶融石英から精密に設計されており、要求の厳しい高温炉管内で均一なガス分配を保証します。半導体産業を含む重要な産業および実験室プロセスに不可欠であり、これらのディフューザーはガスチャンネリングを防止し、雰囲気制御を最適化します。幅広い炉管径（例：50mm～250mm）に対応し、完全にカスタマイズ可能で、一貫したガス流量を実現し、プロセス効率を最大化するための信頼性の高いソリューションを提供します。
備考：
- 支払い方法：ご注文数量に応じて、銀行振込または前払い
- 納期：ご注文数量によります
- 輸送方法：お客様のご要望に応じて、海上輸送または航空輸送
| 特性内容 | 特性値 |
|---|---|
| SiO2 | 99.99% |
| 密度 | 2.2×10³ kg/cm³ |
| 硬度 | モース硬度 5.5～6.5; ヌープ硬度 570 (荷重100g) |
| 引張強度 | 4.8 × 10⁷ Pa (48 N/mm² または 48 MPa); 7,000 psi |
| 圧縮強度 | >1.1×10⁹ Pa (160,000 psi) |
| 熱膨張係数 | 5.5×10⁻⁷ cm/cm·°C (20°C-320°C) |
| 熱伝導率 | 1.4 W/m-°C |
| 比熱 | 670 J/kg-°C |
| 軟化点 | 1730度C（3146度F） |
| 徐冷点 | 1210度C（2210度F） |
| 歪点 | 1120度C（2048度F） |
| 使用温度 | 1200°C |
| 電気抵抗率 | 7×10⁷Ωcm (350°C) |
| サイズ | カスタマイズ対応 |
| ロゴ | ロゴのカスタマイズ対応 |
高温炉における均一なガス分配
精密に設計された多孔構造を持つこれらの石英ディフューザーは、高温用途の炉管内で均一かつ安定したガス流量を確保し、ガスチャンネリングを防止してプロセス効率を最適化します。
卓越した耐高温性および耐薬品性
高純度溶融石英から製造されたこれらのディフューザーは、産業用および実験室用炉内で一般的に見られる極端な温度や過酷な化学環境に耐えることができ、長い耐用年数と安定した性能を保証します。
汚染に敏感なプロセス向けの高純度
石英本来の高純度特性は、プロセスガスや反応環境への不純物の混入を最小限に抑え、半導体製造、材料合成、高純度アニーリングなどのデリケートな用途に不可欠です。
多様な炉管サイズおよび用途に合わせてカスタマイズ可能
幅広い炉管径（例：50mm～250mm）に対応し、カスタマイズ可能なこれらのディフューザーは、長さ、穴パターン、取り付け方法に関して、様々な炉設計に完全に適合し、独自のプロセス要件を満たすように特別に調整可能です。
アプリケーションシナリオ
半導体製造（拡散・CVDプロセス）
半導体製造炉におけるドーピング、拡散、化学気相成長（CVD）などのプロセスにとって極めて重要です。これらは、シリコンウェーハ全体にプロセスガスを正確かつ均一に供給し、均一な膜厚と材料特性を実現するために不可欠です。
高温アニーリング・熱処理
アニーリング、焼結、またはその他の熱処理プロセスにおいて、精密に制御され均一に分布した雰囲気ガス（例：不活性ガス、還元性ガス、酸化性ガス）が必要とされる炉で使用され、所望の材料特性を実現します。
触媒研究・反応器システム
研究室規模およびパイロットスケールの触媒反応器や充填層システムにおいて使用され、反応ガスを触媒層全体に均一に供給することで、接触効率と反応収率を最適化し、特に高温条件下で重要です。
先端材料合成
特定のガス雰囲気と高温を必要とする先端材料の合成（特殊セラミックス、複合材料の製造など）に不可欠であり、均一なガス流が局所的なホットスポットや望ましくない副反応を防ぐプロセスにおいて特に重要です。
取扱注意
石英ガラス製品は貴重な材料で作られているため、衝突や落下を避けるため慎重に取り扱う必要があります
定期メンテナンス
石英管のメンテナンスは、その長期的な安定した性能を確保するため、定期的に実施する必要があります。異常の発生を防ぐため、石英管の接続部、固定具、機械的振動を定期的に点検してください。石英管の外面は、ほこりや湿気による汚染を受けやすいため、定期的な清掃が必要です
保管環境
石英チューブを保管する際は、材料の劣化を防ぐため、機械的振動、衝撃、および過度に高い温度への曝露を避けるよう注意が必要です。乾燥した涼しく換気の良い場所に保管し、直射日光や高温環境を避けてください
石英ガスディフューザーは、炉管全体にわたるガスの均一な分布を確実にすることで、プロセスを大幅に改善します。これにより、ガスチャネリング、ホットスポット、不均一な反応を防ぎ、より一貫性のある再現可能な結果、優れた材料特性、および高温用途におけるプロセスガスの最適化された使用を実現します。
当社の石英ガスディフューザーは、製品仕様に示されているように、一般的に50mmから250mmまでの幅広い標準的な炉管径に適合するよう設計されています。はい、カスタマイズは当社の主要なサービスです。お客様固有の炉の寸法とプロセス要件に正確に適合するよう、特定の長さ、内部構造、穴パターン、および取り付け構成を持つディフューザーを製作可能です。
高純度溶融石英製であるため、当社の石英ガスディフューザーは非常に不活性であり、不活性ガス（アルゴン、窒素など）、反応性ガス、腐食性ガス（フッ化水素酸および高温リン酸を除く）を含む幅広い種類のプロセスガスを、ガス流を劣化させたり汚染したりすることなく効果的に拡散できます。これらは高温炉環境での使用を目的として設計されており、通常は最大1200℃の温度で安定して動作します。
よくある質問
当社は、高純度石英ガラス部品の一貫製造を専門としております。主な製品ラインナップは以下の通りです：
石英管・石英棒: 幅広い直径と仕様。
石英プレート・ディスク: 光学および工業用途向けに精密に切断・研磨。
石英実験器具: ビーカー、フラスコ、ボートなど、標準品から特注品まで幅広い種類のガラス器具。
半導体グレード石英: 半導体製造用のプロセスチューブやキャリアなどの高純度部品。
特注加工部品: お客様固有の設計および仕様に合わせて、複雑な部品を製造できます。
はい。特注加工（カスタム加工）は、当社の事業の中核です。10年以上にわたる専門的な経験を活かし、お客様企業と提携し、専門的なOEM/ODMサービスを提供しております。当社の加工技術には、溶接、研削、穴あけ、研磨、曲げ加工、その他さまざまな精密加工技術が含まれており、お客様の厳密なご要望にお応えする部品を製造いたします。
品質は当社の製造プロセスにおいて最も重要です。当社はISO 9001:2015認証取得メーカーであり、当社のプロセスが国際的な品質管理基準を満たしていることを保証します。また、当社の製品は純度と性能に関して厳格なSGS試験を受けています。当社は高純度原材料（SiO2 99.998%まで）を使用し、優れた熱安定性、高温耐性、化学的不活性を持つ溶融石英および溶融シリカ製品を製造しています。
当社はプロセスを最大限に効率化しました：
RFQ（見積依頼）を提出：ウェブサイトのお問い合わせフォームまたはEメールで、技術図面、仕様、要件をお送りください。
迅速な対応: 数分以内に初回返信を、30分以内に詳細なご連絡を差し上げます。
設計・提案：24時間以内に詳細な設計提案と競争力のある見積もりをお届けします。
試作・生産：承認後、お客様の納期に間に合わせるため、迅速に試作から本格的な量産へと移行いたします。
Aoxin Quartzとの提携には、いくつかの重要なメリットがあります：
実証された専門知識：業界で10年以上の経験を持つ当社には、複雑な課題に取り組むための技術的知見があります。
One-Stop Solution: We manage the entire production process, from sourcing high-purity raw materials to fabricating and finishing complex components.
競争力のある価値：主要な石英生産拠点に位置することで、効率的なサプライチェーンと先進的な製造技術を活用し、競争力のある価格で卓越した品質を提供しています。
Dedicated Partnership: Over 90% of our clients become long-term partners. We are committed to your success through responsive service, reliable quality, and innovative solutions.
