Large-size quartz glass plates, characterized by their exceptional high-temperature resistance, corrosion resistance, and optical properties, are widely utilized in numerous fields such as semiconductors, optics, and high-temperature manufacturing. These plates are typically produced through a continuous fusion method and are available in various sizes and specifications to meet diverse industrial needs.
Eigenschaft Inhalt | Immobilienwerte |
---|---|
SiO2 | 99.99% |
Dichte | 2,2×10³ kg/cm³ |
Härte | 5,5 - 6,5 Mohs'sche Skala 570 KHN 100 |
Zugfestigkeit | 4,8×10⁷ Pa (N/mm2) (7000 psi) |
Druckfestigkeit | >1,1×10⁹ Pa (160.000 psi) |
Wärmeausdehnungskoeffizient | 5,5×10-⁷ cm/cm-°C (20°C-320°C) |
Wärmeleitfähigkeit | 1,4 W/m-°C |
Spezifische Wärme | 670 J/kg-°C |
Erweichungspunkt | 1730°C (3146°F) |
Glühpunkt | 1210°C (2210°F) |
Dehnungspunkt | 1120°C (2048°F) |
Arbeitstemperatur | 1200°C (2192°F) |
Elektrischer spezifischer Widerstand | 7×10⁷ Ohm cm (350°C) |
Größe | Kundenspezifisch |
Logo | Kundenspezifisches Logo akzeptieren |
Hochtemperaturbeständigkeit
Quartz glass plates exhibit exceptional thermal resistance, capable of operating continuously at temperatures ranging from 1100°C to 1250°C, withstanding temperatures up to 1450°C for short periods.
Chemical Stability
With the exception of hydrofluoric acid, quartz glass plates are inert to most acids and chemical reagents, making them highly suitable for use in chemical industries and laboratory environments.
Optical Performance
Quartz glass plates possess superior optical transmission, particularly in the ultraviolet (UV) region, making them an ideal material for manufacturing optical components and instruments.
Dimensional Versatility
Quartz glass plates can be produced in a wide variety of sizes and specifications to meet various industrial applications and customer requirements.
Anwendungsszenario
Semiconductor Manufacturing
Quartz glass plates are utilized as substrate materials in the semiconductor industry due to their exceptional thermal stability and chemical inertness. They serve as bases for growing semiconductor crystals, as photomasks in photolithography, and as components in etching and deposition processes.
Optical Device Manufacturing
Quartz glass plates play a crucial role in manufacturing optical devices, including fiber optic communications, lasers, and optical sensors. Their high refractive index, excellent transparency, and strong thermal stability make them a widely used material in the optics industry.
Aerospace
In the aerospace sector, quartz glass is a key component in spacecraft and space shuttles due to its high strength, low dielectric loss, high temperature resistance, and corrosion resistance. For instance, radiation-resistant quartz glass cover slips protect the energy systems of solar cells.
Large-size quartz glass plates exhibit excellent thermal resistance, capable of operating continuously at temperatures ranging from 1100°C to 1250°C and withstanding temperatures up to 1450°C for short periods. This makes them highly suitable for applications requiring high-temperature environments, such as semiconductor manufacturing and high-temperature experimentation.
In the field of optics, large-size quartz glass plates are widely used due to their high transparency, low refractive index, and excellent ultraviolet (UV) transmission. They can be used to manufacture optical mirrors, lenses, fiber optic communication components, lasers, and optical sensors. The optical performance of quartz glass plates makes them an ideal material for optical instrument manufacturing.
Large-size quartz glass plates demonstrate exceptional chemical stability, exhibiting inertness to most acids and chemical reagents, with the exception of hydrofluoric acid. This makes quartz glass plates very suitable for use in chemical industries and laboratory environments, such as for chemical experimental instruments, chemical pipelines, and reaction vessels, where they can maintain their performance without being eroded.
Häufig gestellte Fragen
Quarzglas ist ein hartes und sprödes Material mit ausgezeichneten physikalischen und chemischen Eigenschaften, extrem hoher mechanischer Härte, guter elektrischer Isolierung, hoher Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit, geringer und stabiler Verzögerungsleistung, guter Lichtdurchlässigkeit usw. Es findet breite Anwendung in der Halbleiterindustrie, Optik, Elektrizität, Chemie, Luft- und Raumfahrt, Automobilindustrie und anderen Bereichen. Harte und spröde Werkstoffe sind schwer zu bearbeiten, und in vielen Bereichen werden dringend Schneidverfahren mit geringem Kanteneinbruch, geringem Materialverlust, geringer Querschnittsrauheit und einem großen Schnittdickenbereich benötigt. Das traditionelle Schneidverfahren für Quarzglas ist das mechanische Schneiden, d. h. das Scheibenschneiden. Zu den nicht-traditionellen Schneidverfahren gehören Wasserstrahlschneiden, elektrochemisches Drahterodieren, kontinuierliches Laserschneiden usw. Das mechanische Schneiden ist kostengünstig, aber der Kontakt zwischen der Scheibe und dem Material verursacht einen hohen Werkzeugverschleiß, und das Material wird leicht durch das Werkzeug verschmutzt. Quarzglas neigt zu Kanteneinbrüchen, Mikrorissen und Eigenspannungen, was die Festigkeit und Leistung des Materials beeinträchtigt! Das Schneiden von Kurven ist schwierig und erfordert Nachbearbeitungen wie Schleifen und Polieren. Das Laserschneiden kommt nicht direkt mit dem Material in Berührung, hat keine Kontaktspannungen und kann komplexe Kurvenschnitte durchführen. Der Pikosekundenlaser hat die Vorteile eines kleinen Punktdurchmessers, einer hohen Präzision, einer kurzen Einwirkungszeit auf das Material und eines kleinen Einwirkungsbereichs und eignet sich für die Bearbeitung von harten und spröden Materialien.
。